Verbesserte Antimonfreie Strahlungshärtbare Zusammensetzungen zur Generativen Fertigung und Anwendungen davon in Feingiessverfahren

EP3377291 Art B1 3. November 2021

Anmelder: Covestro (Netherlands) B.V., DSM IP Assets B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3377291
Aktenzeichen: EP16867103
Anmeldetag: 17. November 2016
Veröffentlichung: 3. November 2021
Erteilung: 3. November 2021
Rechtsraum: EP
IPC: B29C35/08B33Y70/00C08F2/50C08G59/22B22C9/04B29K105/00C08G59/24C08G65/18C09D163/00B33Y10/00B29C64/124C08G59/68C09D7/63

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Covestro (Netherlands) B.V.
DSM IP Assets B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 DSM

Niederländisches Unternehmen für Ernährung, Gesundheit und Materialien mit Sitz in Heerlen. Aktiv in Biotechnologie, Spezialchemikalien sowie Inhaltsstoffen für Lebensmittel, Pharma und nachhaltige Materialien. Seit 2023 Teil von dsm-firmenich.

4.790 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von