Lithografische Vorrichtung Eingerichtet zur Bestimmung von Korrekturen zur Kompensierung von Pellikelverschlechterung
EP3379332
Art A1
26. September 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3379332
- Aktenzeichen
- EP17162725
- Anmeldetag
- 24. März 2017
- Veröffentlichung
- 26. September 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/62G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
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