Herstellung von Antireflexions- und Passivierungsschichten einer Siliciumoberfläche
EP3381058
Art B1
4. März 2020
Anmelder: Council of Scientific and Industrial Research 🇮🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3381058
- Aktenzeichen
- EP16834051
- Anmeldetag
- 22. November 2016
- Veröffentlichung
- 4. März 2020
- Erteilung
- 4. März 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L31/0216H01L31/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Council of Scientific and Industrial Research
- Land
- 🇮🇳 Indien
🇮🇳
Council of Scientific and Industrial Research
Indische staatliche Forschungsorganisation mit Sitz in Neu-Delhi, die ein Netzwerk nationaler Laboratorien für angewandte Wissenschaft und Industrieforschung koordiniert.
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