Optische Metrologie von Lithographischen Prozessen mit Asymmetrischen Subauflösungsmerkmalen zur Verbesserung der Messung

EP3391150 Art B1 10. Mai 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3391150
Aktenzeichen: EP16804751
Anmeldetag: 29. November 2016
Veröffentlichung: 10. Mai 2023
Erteilung: 10. Mai 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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