Verfahren zur Herstellung einer Membrananordnung für Euv-Lithographie, Membrananordnung, Lithographievorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren

EP3391151 Art B1 16. Februar 2022

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3391151
Aktenzeichen: EP16805433
Anmeldetag: 2. Dezember 2016
Veröffentlichung: 16. Februar 2022
Erteilung: 16. Februar 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F1/62G03F1/64

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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