Oxidationsbeständiges Barrieremetall für Halbleiterbauelemente und Zugehöriges Verfahren
EP3391408
Art B1
3. Juni 2020
Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3391408
- Aktenzeichen
- EP16876903
- Anmeldetag
- 19. Dezember 2016
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2020
- Erteilung
- 3. Juni 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768H01L23/532
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Texas Instruments Incorporated
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Texas Instruments
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
3.600 Patente in unserer Datenbank