Verfahren zum Waschen von Abstrichelementen und Vorrichtung zur Herstellung von Abstrichen
EP3392642
Art B1
2. Juni 2021
Anmelder: SYSMEX CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3392642
- Aktenzeichen
- EP18165639
- Anmeldetag
- 4. April 2018
- Veröffentlichung
- 2. Juni 2021
- Erteilung
- 2. Juni 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N1/28G01N11/16G01N33/49G01N35/02G01N1/31G01N35/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SYSMEX CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sysmex
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Kobe, spezialisiert auf Entwicklung und Herstellung von Labordiagnostik- und Analysegeräten, insbesondere für Hämatologie und klinische Chemie.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München