Verfahren zum Waschen von Abstrichelementen und Vorrichtung zur Herstellung von Abstrichen

EP3392642 Art B1 2. Juni 2021

Anmelder: SYSMEX CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3392642
Aktenzeichen
EP18165639
Anmeldetag
4. April 2018
Veröffentlichung
2. Juni 2021
Erteilung
2. Juni 2021
Rechtsraum
EP
IPC
G01N1/28G01N11/16G01N33/49G01N35/02G01N1/31G01N35/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SYSMEX CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sysmex

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Kobe, spezialisiert auf Entwicklung und Herstellung von Labordiagnostik- und Analysegeräten, insbesondere für Hämatologie und klinische Chemie.

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