Positivresistfilmlaminat und Musterbildungsverfahren

EP3392708 Art B1 18. März 2020

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3392708
Aktenzeichen: EP18166432
Anmeldetag: 10. April 2018
Veröffentlichung: 18. März 2020
Erteilung: 18. März 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/023G03F7/40G03F7/022

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von