Verfahren und Strukturierungsvorrichtungen sowie Vorrichtungen zur Messung der Fokusleistung einer Lithografievorrichtung, Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
EP3394677
Art B1
1. Februar 2023
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3394677
- Aktenzeichen
- EP16806123
- Anmeldetag
- 6. Dezember 2016
- Veröffentlichung
- 1. Februar 2023
- Erteilung
- 1. Februar 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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