Lithografisches Retikelsystem

EP3404485 Art B1 3. Juli 2019

Anmelder: IMEC vzw, IMEC USA NANOELECTRONICS DESIGN CENTER, Inc. 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3404485
Aktenzeichen: EP17171170
Anmeldetag: 15. Mai 2017
Veröffentlichung: 3. Juli 2019
Erteilung: 3. Juli 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/62

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: IMEC vzw
IMEC USA NANOELECTRONICS DESIGN CENTER, Inc.
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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