Reflektives Optisches Element und Optisches System für die Euv-Lithographie

EP3405838 Art B1 8. Januar 2020

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3405838
Aktenzeichen: EP17700532
Anmeldetag: 16. Januar 2017
Veröffentlichung: 8. Januar 2020
Erteilung: 8. Januar 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F1/24G21K1/06G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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