Copolymer, Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Formung einer Resiststruktur

EP3409700 Art B1 2. Februar 2022

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3409700
Aktenzeichen: EP17744100
Anmeldetag: 20. Januar 2017
Veröffentlichung: 2. Februar 2022
Erteilung: 2. Februar 2022
Rechtsraum: EP
IPC: C08F212/12C08F220/22G03F7/039C09D125/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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