Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur

EP3410209 Art B1 10. März 2021

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3410209
Aktenzeichen: EP17744102
Anmeldetag: 20. Januar 2017
Veröffentlichung: 10. März 2021
Erteilung: 10. März 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039G03F7/004G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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