Manipuliertes Substrat mit Eingebettetem Spiegel

EP3411908 Art B1 18. März 2020

Anmelder: Soitec, Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3411908
Aktenzeichen
EP17701524
Anmeldetag
27. Januar 2017
Veröffentlichung
18. März 2020
Erteilung
18. März 2020
Rechtsraum
EP
IPC
H01L31/0725C30B33/06H01L21/20H01L21/203H01L31/18H01L31/056H01L31/054H01L31/043
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Soitec
Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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