Verfahren und Strukturierungsvorrichtungen sowie Vorrichtungen zur Messung der Fokusleistung einer Lithografievorrichtung, Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
EP3422102
Art A1
2. Januar 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3422102
- Aktenzeichen
- EP17177774
- Anmeldetag
- 26. Juni 2017
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
Patente gesamt
11
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte