Ätzlösung zum Selektiven Entfernen von Siliziumnitrid Während der Herstellung eines Halbleiterbauelements
Anmelder: Versum Materials US, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3422392
- Aktenzeichen
- EP18175806
- Anmeldetag
- 4. Juni 2018
- Veröffentlichung
- 21. Juli 2021
- Erteilung
- 21. Juli 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Versum Materials US, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.
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Fachgebiete
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