Verbesserte Blockade von Selbstorganisierender Monoschicht mit Intermittierender Luft-Wasser-Exposition

EP3424070 Art B1 27. März 2024

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3424070
Aktenzeichen: EP17760627
Anmeldetag: 28. Februar 2017
Veröffentlichung: 27. März 2024
Erteilung: 27. März 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/314

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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