Lichtdurchlässiges Material, Material mit Geringer Haftung und Formelement

EP3431454 Art B1 26. Januar 2022

Anmelder: Towa Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3431454
Aktenzeichen
EP17766584
Anmeldetag
13. März 2017
Veröffentlichung
26. Januar 2022
Erteilung
26. Januar 2022
Rechtsraum
EP
IPC
C03C17/245B32B18/00C03C17/34C04B35/505
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Towa Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Towa

Towa ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterverpackung, insbesondere Formmaschinen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiterbauelemente und Kunststofftechnik, ergänzt durch Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Titel betreffen unter anderem Schneidvorrichtungen und -verfahren für gefertigte Bauteile.

286 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen