Oberflächenbehandlungsmittel für Wachsstruktur

EP3434754 Art A1 30. Januar 2019

Anmelder: GC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3434754
Aktenzeichen
EP17769898
Anmeldetag
7. März 2017
Veröffentlichung
30. Januar 2019
Rechtsraum
EP
IPC
C10M103/00A61C13/20B22C3/00B28B3/00A61C13/08B22C9/04B28B3/02B28B7/34B28B7/38// A61C13/083
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
GC Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 GC

GC Corporation ist ein japanischer Hersteller von Dentalmaterialien und -geräten mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio ist ganz überwiegend auf Medizintechnik im Bereich zahnmedizinischer Werkstoffe konzentriert, ergänzt um Kunststoff- und anorganische Chemie. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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