Schutzschicht für Photopolymer

EP3435156 Art A1 30. Januar 2019

Anmelder: Covestro Deutschland AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3435156
Aktenzeichen: EP17183344
Anmeldetag: 26. Juli 2017
Veröffentlichung: 30. Januar 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G03F7/09G03F7/11G03H1/02G11B7/245

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Covestro Deutschland AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Covestro Deutschland

Deutsches Chemieunternehmen mit Sitz in Leverkusen. Covestro entwickelt und produziert Hochleistungskunststoffe wie Polyurethane und Polycarbonate für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Optik & Fototechnik

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