Aktivlichtempfindliche oder Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, Verfahren zur Herstellung einer Aktivlichtempfindlichen oder Strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, Strukturbildungsverfahren und Herstellungsverfahren für Elektronische Vorrichtung

EP3435157 Art B1 6. Januar 2021

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3435157
Aktenzeichen: EP17769861
Anmeldetag: 3. März 2017
Veröffentlichung: 6. Januar 2021
Erteilung: 6. Januar 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/26G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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