Aktive Strahlenempfindliche oder Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, Verfahren zur Reinigung einer Aktiven Strahlenempfindlichen oder Strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, Strukturbildungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung

EP3435158 Art B1 19. November 2025

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3435158
Aktenzeichen: EP17769966
Anmeldetag: 10. März 2017
Veröffentlichung: 19. November 2025
Erteilung: 19. November 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/20G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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