Aktive Strahlenempfindliche oder Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, Verfahren zur Reinigung der Aktiven Strahlenempfindlichen oder Strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, Verfahren zur Herstellung der Aktiven Strahlenempfindlichen oder Strahlungsempfindlichen Zusammensetzung, Musterbildungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung
EP3435159
Art A1
30. Januar 2019
Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3435159
- Aktenzeichen
- EP17770061
- Anmeldetag
- 15. März 2017
- Veröffentlichung
- 30. Januar 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/20G03F7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München