Plasmaätzverfahren
EP3435408
Art A1
30. Januar 2019
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3435408
- Aktenzeichen
- EP17770131
- Anmeldetag
- 16. März 2017
- Veröffentlichung
- 30. Januar 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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Adam, Holger
München, Deutschland
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