Ätzlösung zur Selektiven Entfernung von Tantalnitrid über Titannitrid bei der Herstellung eines Halbleiterbauelements
Anmelder: Versum Materials US, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3447792
- Aktenzeichen
- EP18190705
- Anmeldetag
- 24. August 2018
- Veröffentlichung
- 3. April 2024
- Erteilung
- 3. April 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3213
Abstract
Described herein is an etching solution comprising water; phosphoric acid solution (aqueous); a fluoride ion source; and a water-miscible organic solvent. Such compositions are useful for the selective removal of tantalum nitride over titanium nitride from a microelectronic device having such material(s) thereon during its manufacture.
Anmelder
- Firma
- Versum Materials US, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.
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Fachgebiete
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