Bildung eines Luftspaltabstandshalters eines Nanodrahts einer Horizontalen Gate-All-Around-Vorrichtung

EP3449506 Art A1 6. März 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3449506
Aktenzeichen: EP17790053
Anmeldetag: 21. März 2017
Veröffentlichung: 6. März 2019
Rechtsraum: EP
IPC: H01L29/49H01L29/78B82Y10/00H01L21/764H01L21/8238B82Y40/00H01L29/08H01L29/775H01L21/331H01L29/06H01L29/423H01L29/786

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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