Zusammensetzung zur Bildung einer Resistunterschicht, Unterschicht für die Lithografie und Verfahren zur Strukturformung

EP3451059 Art A1 6. März 2019

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3451059
Aktenzeichen: EP17789732
Anmeldetag: 28. April 2017
Veröffentlichung: 6. März 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11C08G8/04G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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