Verfahren und Strukturierungsvorrichtungen sowie Vorrichtungen zur Messung der Fokusleistung einer Lithografievorrichtung, Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
EP3454127
Art A1
13. März 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3454127
- Aktenzeichen
- EP17190433
- Anmeldetag
- 11. September 2017
- Veröffentlichung
- 13. März 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/24G21K1/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
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