Verfahren und System zur Detektion von Defekten eines Lithographischen Musters
EP3454128
Art B1
29. Januar 2020
Anmelder: IMEC vzw 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3454128
- Aktenzeichen
- EP17190509
- Anmeldetag
- 12. September 2017
- Veröffentlichung
- 29. Januar 2020
- Erteilung
- 29. Januar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G01N21/956G06T7/00G01N21/88
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- IMEC vzw
- Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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Vertreten von
-
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AWA Sweden AB · Stockholm