Euv-Lithographiesystem für Dichte Linienstrukturierung

EP3458912 Art A1 27. März 2019

Anmelder: Nikon Corporation, Flagello, Donis, G., Williamson, David, M., Renwick, Stephen, P., Smith, Daniel, Gene, Binnard, Michael, B. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3458912
Aktenzeichen: EP17798827
Anmeldetag: 19. Mai 2017
Veröffentlichung: 27. März 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B17/06G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nikon Corporation
Flagello, Donis, G.
Williamson, David, M.
Renwick, Stephen, P.
Smith, Daniel, Gene
Binnard, Michael, B.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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