Mems-Mikrofon und Herstellungsverfahren dafür

EP3468226 Art B1 23. Juni 2021

Anmelder: CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3468226
Aktenzeichen
EP17805758
Anmeldetag
26. Mai 2017
Veröffentlichung
23. Juni 2021
Erteilung
23. Juni 2021
Rechtsraum
EP
IPC
H04R19/04H04R19/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 CSMC Technologies Fab2

CSMC Technologies Fab2 Co., Ltd. ist ein chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Wuxi, der als Foundry Leistungshalbleiter und analoge Bauelemente fertigt. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Elektronik, Optik und Mess- und Prüftechnik. Anmeldungen erfolgen seit 2010 bis in die Gegenwart.

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