Verfahren zur Bestimmung eines Überlagerungsfehlers, Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtigen Halbleiterbauelements, Rasterkraftmikroskopievorrichtung, Lithografiesystem und Halbleiterbauelement
EP3472628
Art B1
27. November 2024
Anmelder: Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3472628
- Aktenzeichen
- EP17732262
- Anmeldetag
- 16. Juni 2017
- Veröffentlichung
- 27. November 2024
- Erteilung
- 27. November 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01Q60/32G03F7/20G01N29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
TNO (Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk onderzoek)
Niederländisches, unabhängiges Forschungsinstitut für angewandte Naturwissenschaften mit Sitz in Den Haag. TNO betreibt anwendungsorientierte Forschung und Entwicklung in Bereichen wie Energie, Mobilität, Gesundheit, Verteidigung und Informationstechnologie.
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