Extrem-Ultraviolett-Lithografiesystem mit Dichten Linien und Verzerrungsanpassung

EP3472672 Art A1 24. April 2019

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3472672
Aktenzeichen: EP17815964
Anmeldetag: 15. Juni 2017
Veröffentlichung: 24. April 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B17/06G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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