Verfahren zur Verbesserung der Koerzitivfeldstärke von Eisenoxid vom Epsilon-Typ

EP3473599 Art A1 24. April 2019

Anmelder: The University of Tokyo, DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3473599
Aktenzeichen: EP18197222
Anmeldetag: 30. September 2010
Veröffentlichung: 24. April 2019
Rechtsraum: EP
IPC: C01G49/06C01G49/00H01F1/11

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: The University of Tokyo
DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

2.129 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von