Spiegel für Euv-Lithografie

EP3489374 Art B1 21. September 2022

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3489374
Aktenzeichen: EP18207117
Anmeldetag: 14. Januar 2012
Veröffentlichung: 21. September 2022
Erteilung: 21. September 2022
Rechtsraum: EP
IPC: C22C9/00C22C21/00C22C29/00G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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