Reflektives Optisches Element für die Euv-Lithographie

EP3491468 Art B1 21. Februar 2024

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3491468
Aktenzeichen: EP17740385
Anmeldetag: 17. Juli 2017
Veröffentlichung: 21. Februar 2024
Erteilung: 21. Februar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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