Duale Metallsilizidstrukturen zur Herstellung Fortschrittlicher Integrierter Schaltungsstrukturen

EP3493250 Art B1 11. März 2026

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3493250
Aktenzeichen: EP18203579
Anmeldetag: 30. Oktober 2018
Veröffentlichung: 11. März 2026
Erteilung: 11. März 2026
Rechtsraum: EP
IPC: H10D1/47H10D30/62H10D84/01H10D84/03

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INTEL Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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