Trägersubstrat und Verfahren zur Herstellung eines Gehäusesubstrats zur Montage eines Halbleiterelements
EP3496138
Art B1
17. Januar 2024
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3496138
- Aktenzeichen
- EP17837105
- Anmeldetag
- 4. August 2017
- Veröffentlichung
- 17. Januar 2024
- Erteilung
- 17. Januar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/48H05K3/46H01L23/538H01L23/498H01L21/683H05K3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München