Verfahren zur Direkten Abscheidung von Palladium auf eine Nichtaktivierte Oberfläche eines Gallium-Nitrid-Halbleiters

EP3504355 Art A1 3. Juli 2019

Anmelder: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG, Atotech Deutschland GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3504355
Aktenzeichen: EP17755493
Anmeldetag: 21. August 2017
Veröffentlichung: 3. Juli 2019
Rechtsraum: EP
IPC: C23C18/16C23C18/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG
Atotech Deutschland GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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