Negativ Arbeitende Photoresistzusammensetzungen zur Laserablation und Methode unter deren Verwendung
EP3511774
Art B1
27. Oktober 2021
Anmelder: Merck Patent GmbH, AZ Electronic Materials Luxembourg S.à.r.l. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3511774
- Aktenzeichen
- EP19158497
- Anmeldetag
- 20. Dezember 2016
- Veröffentlichung
- 27. Oktober 2021
- Erteilung
- 27. Oktober 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/038G03F7/004G03F7/36G03F7/38G03F7/40G03F7/20G03F7/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Merck Patent GmbH
AZ Electronic Materials Luxembourg S.à.r.l. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Merck KGaA
Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.
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Féaux de Lacroix, Stefan
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