Komponente für eine Spiegelanordnung für die Euv-Lithographie und Verfahren zur Herstellung Derselben

EP3513250 Art B1 2. November 2022

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3513250
Aktenzeichen: EP17771401
Anmeldetag: 17. September 2017
Veröffentlichung: 2. November 2022
Erteilung: 2. November 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20C22C32/00C22C47/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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