Metall-Gate-Strukturen mit Differenzierter Spannungsschwelle zur Herstellung von Erweiterter Integrierter Schaltungsstruktur

EP3514826 Art A3 2. Oktober 2019

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3514826
Aktenzeichen: EP18203572
Anmeldetag: 30. Oktober 2018
Veröffentlichung: 2. Oktober 2019
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/762H01L21/768H01L23/522H01L23/532H01L21/033H01L21/308H01L23/485H10D1/47H10D30/01H10D30/62H10D30/69H10D62/822H10D84/01H10D84/03H10D84/83H10D84/85H10D64/01

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INTEL Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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