Modellaugenentwurf zur Kalibrierung von Abbildungssystemen sowie Zugehörige Verfahren, Systeme und Vorrichtungen
EP3520679
Art A1
7. August 2019
Anmelder: Leica Microsystems Inc., Leica Microsystems, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3520679
- Aktenzeichen
- EP18248157
- Anmeldetag
- 28. Dezember 2018
- Veröffentlichung
- 7. August 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- A61B3/10G09B23/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Leica Microsystems Inc.
Leica Microsystems, Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇩🇪
Leica Microsystems
Deutsches Unternehmen für optische und digitale Mikroskopie, entwickelt Mikroskope und Bildgebungssysteme für Forschung, Industrie und medizinische Diagnostik.
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