Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Halbleiterlithografie mit Erhöhter Thermischer Robustheit
EP3523697
Art B1
24. März 2021
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3523697
- Aktenzeichen
- EP17778248
- Anmeldetag
- 27. September 2017
- Veröffentlichung
- 24. März 2021
- Erteilung
- 24. März 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Raunecker Patent
Ulm, Deutschland
Raunecker Patent ist eine Patentanwälte-Partnerschaft mit Hauptsitz in Ulm und Standorten in München und Markdorf, die beim Schutz technischer Erfindungen, bei Patent-, Marken- und Designanmeldungen sowie bei Markenüberwachung und Lizenzvereinbarungen begleitet.
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