Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Halbleiterlithografie mit Erhöhter Thermischer Robustheit

EP3523697 Art B1 24. März 2021

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3523697
Aktenzeichen
EP17778248
Anmeldetag
27. September 2017
Veröffentlichung
24. März 2021
Erteilung
24. März 2021
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Kanzlei
Raunecker Patent Ulm, Deutschland

Raunecker Patent ist eine Patentanwälte-Partnerschaft mit Hauptsitz in Ulm und Standorten in München und Markdorf, die beim Schutz technischer Erfindungen, bei Patent-, Marken- und Designanmeldungen sowie bei Markenüberwachung und Lizenzvereinbarungen begleitet.

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