Verfahren zur Erfassung einer Beeinträchtigung der Integrität eines Halbleitersubstrats eines Integrierten Schaltkreises von Seiner Rückseite Aus, und Entsprechende Vorrichtung

EP3525236 Art A1 14. August 2019

Anmelder: STMicroelectronics (Rousset) SAS 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3525236
Aktenzeichen
EP19153676
Anmeldetag
25. Januar 2019
Veröffentlichung
14. August 2019
Rechtsraum
EP
IPC
H01L23/58G06K19/073
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
STMicroelectronics (Rousset) SAS
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 STMicroelectronics (Rousset)

Französischer Produktionsstandort des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics in Rousset. Der Standort fertigt integrierte Schaltkreise und Halbleiterbauelemente für Automobil-, Industrie- und Konsumelektronik.

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