Positive Resistzusammensetzung, für die Positive Resistzusammensetzung Verwendetes Harz, für die Synthese des Harzes Verwendete Verbindung und Musterformungsverfahren mit Verwendung Positiven Resistzusammensetzung
EP3537217
Art B1
31. August 2022
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3537217
- Aktenzeichen
- EP19170084
- Anmeldetag
- 7. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 31. August 2022
- Erteilung
- 31. August 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/039G03F7/20G03F7/075G03F7/30G03F7/32C07C69/653
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München