Laserverarbeitungsverfahren mit Gepulsten Erstem und Zweitem Bestrahlungssprozess unter Verwendung Unterschiedlicher Ausgangwerte
EP3539711
Art B1
6. Januar 2021
Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3539711
- Aktenzeichen
- EP19161001
- Anmeldetag
- 6. März 2019
- Veröffentlichung
- 6. Januar 2021
- Erteilung
- 6. Januar 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B23K26/06B23K26/22B23K26/26B23K26/0622
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kabushiki Kaisha Toshiba
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München