Mit einer Dreidimensionalen Ätzmaske Hergestellte Antireflektierende Oberflächenstrukturen

EP3552049 Art A1 16. Oktober 2019

Anmelder: The Government of the United States of America, as represented by the Secretary of the Navy, Frantz, Jesse A., Busse, Lynda E., Shaw, Leslie, Brandon, Sanghera, Jasbinder S., Aggarwal, Ishwar D., Poutous, Menelaos K. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3552049
Aktenzeichen: EP17879570
Anmeldetag: 7. Dezember 2017
Veröffentlichung: 16. Oktober 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G02B1/12G02B1/113G02B1/118

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: The Government of the United States of America, as represented by the Secretary of the Navy
Frantz, Jesse A.
Busse, Lynda E.
Shaw, Leslie, Brandon
Sanghera, Jasbinder S.
Aggarwal, Ishwar D.
Poutous, Menelaos K.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 The Government of the United States of America As Represented By the Secretary of the Navy

Dieser Anmelder steht für Patente der US-Marine, angemeldet über die Regierung der Vereinigten Staaten. Das Patentportfolio deckt breit Halbleiterbauelemente, Mess- und Prüftechnik sowie Optik- und Fototechnik für militärische und maritime Forschung ab. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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