Wasserabweisende Filmbildende Zusammensetzung und Wasserabweisender Film

EP3553121 Art B1 9. Juni 2021

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3553121
Aktenzeichen: EP19166684
Anmeldetag: 2. April 2019
Veröffentlichung: 9. Juni 2021
Erteilung: 9. Juni 2021
Rechtsraum: EP
IPC: C08K3/36

Abstract

A composition is provided comprising (a) a polysilazane having a monovalent hydrocarbon group, (b) untreated metal oxide nanoparticles, metal oxide nanoparticles having a monovalent hydrocarbon group, or metal oxide nanoparticles having an alkylsilyl or alkoxysilyl group, and (c) an aprotic solvent. The composition has storage stability and is suitable for forming a film having water repellent, especially superhydrophobic properties.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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