Zusammensetzung und Verfahren zum Entfernen von Rückständen aus Chemisch-Mechanischem Planarisierungssubstrat

EP3555907 Art A1 23. Oktober 2019

Anmelder: CMC Materials LLC, CMC Marerials LLC, CMC Materials, Inc., Cabot Microelectronics Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3555907
Aktenzeichen
EP17880142
Anmeldetag
29. November 2017
Veröffentlichung
23. Oktober 2019
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/02H01L21/321C11D11/00C11D3/22C11D7/26
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
CMC Materials LLC
CMC Marerials LLC
CMC Materials, Inc.
Cabot Microelectronics Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cabot Microelectronics

Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.

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