Zusammensetzung und Verfahren zum Entfernen von Rückständen aus Chemisch-Mechanischem Planarisierungssubstrat
EP3555907
Art A1
23. Oktober 2019
Anmelder: CMC Materials LLC, CMC Marerials LLC, CMC Materials, Inc., Cabot Microelectronics Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3555907
- Aktenzeichen
- EP17880142
- Anmeldetag
- 29. November 2017
- Veröffentlichung
- 23. Oktober 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/321C11D11/00C11D3/22C11D7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- CMC Materials LLC
CMC Marerials LLC
CMC Materials, Inc.
Cabot Microelectronics Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cabot Microelectronics
Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.
290 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Barker Brettell LLP
Barker Brettell LLP · Kongens Lyngby